本報訊 （記者張文湘 見習記者占健宇）2月27日，中微半導體設(shè)備（上海）股份有限公司（以下簡稱“中微公司”）披露2025年業(yè)績快報。2025年，公司實現(xiàn)營業(yè)收入123.85億元，同比增長36.62%；歸屬于母公司所有者的凈利潤為21.11億元，較上年同期增加30.69%。

    公告顯示，根據(jù)市場需求，公司加大研發(fā)力度，新產(chǎn)品數(shù)量快速增加。2025年全年公司研發(fā)投入37.44億元，較2024年增長12.91億元，同比增長52.65%，研發(fā)投入占公司營業(yè)收入比例為30.23%。

    對于業(yè)績變動的原因，中微公司在公告中提到，公司主營產(chǎn)品等離子體刻蝕設(shè)備作為半導體前道核心設(shè)備之一，市場空間廣闊，技術(shù)壁壘較高。公司的等離子體刻蝕設(shè)備在國內(nèi)外持續(xù)獲得更多客戶的認可，針對先進邏輯和存儲器件制造中關(guān)鍵刻蝕工藝的高端產(chǎn)品新增付運量顯著提升，先進邏輯器件中段關(guān)鍵刻蝕工藝和先進存儲器件超高深寬比刻蝕工藝實現(xiàn)量產(chǎn)。

    同時，該公司在新產(chǎn)品開發(fā)方面取得了顯著成效，近兩年新開發(fā)出十多種導體和介質(zhì)薄膜設(shè)備，目前已有多款新型設(shè)備產(chǎn)品進入市場，其中部分設(shè)備已獲得重復性訂單，LPCVD設(shè)備累計出貨量突破三百個反應臺，其他多個關(guān)鍵薄膜沉積設(shè)備研發(fā)項目正在順利推進；公司EPI設(shè)備已順利進入客戶端量產(chǎn)驗證階段。

    公告顯示，中微公司持續(xù)保持國際氮化鎵基MOCVD設(shè)備市場領(lǐng)先地位，積極布局用于碳化硅和氮化鎵基功率器件應用的市場，并在Micro-LED和其他顯示領(lǐng)域的專用MOCVD設(shè)備開發(fā)上取得了良好進展，幾款MOCVD新產(chǎn)品進入客戶端驗證階段。公司新型八寸碳化硅外延設(shè)備、新型紅黃光LED應用設(shè)備已付運至國內(nèi)領(lǐng)先客戶開展驗證，目前進展順利。

    此外，中微公司在南昌約14萬平方米的生產(chǎn)和研發(fā)基地、上海臨港約18萬平方米的生產(chǎn)和研發(fā)基地已經(jīng)投入使用，保障了公司銷售快速增長。公司持續(xù)開發(fā)關(guān)鍵零部件供應商，推動供應鏈穩(wěn)定、安全，設(shè)備交付率保持在較高水準，設(shè)備的及時交付也為公司銷售增長提供了有力支撐。

（編輯 郭之宸）